Large-area, uniform, high-spatial-frequency ripples generated on silicon using a nanojoule-femtosecond laser at high repetition rate
In: Optics Letters, Jg. 36 (2011) ; Nr. 2, S. 229-231
ISSN: 1539-4794, 0146-9592
Zeitschriftenaufsatz / Fach: Chemie
Signatur der Zeitschrift: D30/67 O 5
Abstract:
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