Nonlinear femtosecond laser processing of alkylsiloxane monolayers on surface-oxidized silicon substrates
In: Journal of Vacuum Science and Technology A : Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 28 (2010), Heft 4, S. 814 - 817
2010Artikel/Aufsatz in Zeitschrift
ChemieForschungszentren » Center for Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE)
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Titel in Englisch:
Nonlinear femtosecond laser processing of alkylsiloxane monolayers on surface-oxidized silicon substrates
Autor*in:
Franzka, SteffenUDE
- LSF ID
- 11103
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- GND
- 115540466
- LSF ID
- 11099
- ORCID
-
0000-0001-6804-514X
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
2010
Sprache des Textes:
Englisch
Titel in Englisch (abgekürzt):
JVST
Erscheinungsort:
New York
Verlag:
American Vacuum Society (AVS)
in:
Jg. 28 (2010), Heft 4, S. 814 - 817
ISSN
ISSN
ZDB ID
Signatur der UB: