Freeland, J. W.; Chakarian, V.; Bussmann, K.; Idzerda, Y. U.; Wende, Heiko; Kao, C. C.:
Exploring magnetic roughness in CoFe thin films : Part 2
1998
In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, Jg. 83 (1998), Heft 11, S. 6290 - 6292
Artikel/Aufsatz in Zeitschrift1998Physik
Titel:
Exploring magnetic roughness in CoFe thin films : Part 2
Autor(in):
Freeland, J. W.; Chakarian, V.; Bussmann, K.; Idzerda, Y. U.; Wende, HeikoLSF; Kao, C. C.
Erscheinungsjahr
1998
Erschienen in:
Titel:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
in:
Jg. 83 (1998), Heft 11, S. 6290 - 6292
ISSN: