Freeland, J.w.; Chakarian, V.; Bussmann, K.; Idzerda, Y.u.; Wende, Heiko; Kao, C.c.:

Exploring magnetic roughness in CoFe thin films : Part 2

In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, Jg. 83 (1998) ; Nr. 11, S. 6290-6292
ISSN: 0021-8979
Zeitschriftenaufsatz / Fach: Physik