Plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition of amorphous aluminum nitride
In: Journal of Applied Physics, Jg. 90 (2001), Heft 11, S. 5825 - 5831
Titel in Englisch:
Plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition of amorphous aluminum nitride
Autor*in:
Harris, H.;Biswas, N.;Temkin, H.;Gangopadhyay, S.;Strathmann, MartinUDE
- LSF ID
- 14744
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
2001
Sprache des Textes:
Englisch
Erschienen in
Titel in Englisch (abgekürzt):
J Appl Phys
Erscheinungsort:
College Park
Verlag:
American Institute of Physics (AIP)
in:
Jg. 90 (2001), Heft 11, S. 5825 - 5831
ISSN
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ZDB ID
Signatur der UB: