Zur Photodesorptionsdynamik von Stickstoffdioxid an ultradünnen Silberfilmen auf Silizium

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Abstract.pdf14.03.2005 11:49:533,9 KB
Doktorarbeit_A5.pdf14.03.2005 11:49:533,77 MB
Das Verhalten von heißen Elektronen im oberflächennahen Bereich ist der Schlüssel zu einer Vielzahl von photodynamischen Prozessen. Die Arbeit beinhaltet Untersuchungen zur Photodesorptionsdynamik von Stickstoffdioxid an ultradünnen Silberfilmen mit einer (111)-Orientierung auf Silizium(100) im Ulrahochvakuum (p = 10-10 mbar). Epitaktisch gewachsene Silberfilme (Ts = 95 K) zwischen 4 und 60 nm zeigen, dass mit Belichtung von 4.7 eV und 3.5 eV eines NdYAG-Lasers im Vergleich zum Silber-Einkristall mit abnehmender Schichtdicke der Photodesorptionswirkungsquerschnitt jeweils um einen Faktor vier ansteigt. Der resultierende Wirkungsquerschnitt von 10-20 cm2 wird auf die oberflächenprojizierte Bandstruktur der Ag(111)-Oberfläche zurückgeführt. Es zeigte sich, dass der Desorptionsprozess bei der Belichtung mit 3.5 eV eine Funktion der der Ag-Schichtdicke ist. Des Weiteren wurden Untersuchungen zur Winkelabhängigkeit des Photodesorptionsprozesses durchgeführt.
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Dokumententyp:
Wissenschaftliche Abschlussarbeiten » Dissertation
Fakultät / Institut:
Fakultät für Chemie
Dewey Dezimal-Klassifikation:
500 Naturwissenschaften und Mathematik » 540 Chemie
Stichwörter:
Photodesorptionsdynamik. Silizium (100), ultradünne Silberfilme, Stickstoffdioxid, oberflächenprojizierte Bandstruktur
Beitragender:
Prof. Dr. Hasselbrink, Eckart [Gutachter(in), Rezensent(in)]
Sprache:
Deutsch
Kollektion / Status:
Dissertationen / Dokument veröffentlicht
Datum der Promotion:
04.02.2005
Dokument erstellt am:
04.02.2005
Promotionsantrag am:
04.02.2005
Dateien geändert am:
18.12.2012
Medientyp:
Text